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本发明涉及无机合成技术领域，旨在提供一种合成碳量子点材料的方法。该方法是将还原剂与反应底物一并放入溶剂中，在100～200℃下反应2～72小时以合成碳量子点材料；所述还原剂与反应底物的摩尔比为1～100，溶剂与反应底物的质量比为20～100...
该专利属于浙江大学所有，仅供学习研究参考，未经过浙江大学授权不得商用。

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