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本实用新型公开了一种高效高压LED芯片,包括衬底、依次形成在所述的衬底上的N型GaN限制层、外延发光层和P型GaN限制层,所述的N型GaN限制层、外延发光层和P型GaN限制层上蚀刻隔离出多个独立的呈阵列分布的图形单元,其位于中部的图形单元呈...该专利属于海迪科(苏州)光电科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过海迪科(苏州)光电科技有限公司授权不得商用。
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本实用新型公开了一种高效高压LED芯片,包括衬底、依次形成在所述的衬底上的N型GaN限制层、外延发光层和P型GaN限制层,所述的N型GaN限制层、外延发光层和P型GaN限制层上蚀刻隔离出多个独立的呈阵列分布的图形单元,其位于中部的图形单元呈...