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本发明提供可同时改良图案倒塌和熔化的光刻用清洗液以及使用其的图案形成方法。具体提供包含烷基胺等特定的含氮化合物和水的光刻用清洗液以及使用其的图案形成方法。清洗液也可根据需要包含非离子性表面活性剂。...
该专利属于AZ电子材料IP(日本)株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过AZ电子材料IP(日本)株式会社授权不得商用。

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