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本发明提供一种正型感光性组合物，其适合于形成高耐热性、高耐溶剂性、高透射率、低介电常数的层间绝缘膜，且具有在显影工序中即使超过最佳显影时间也能形成良好的图案形状的大的显影容限，具体而言，其是含有使下述的化合物（1）与化合物（2）进行水解缩合...
该专利属于株式会社艾迪科所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社艾迪科授权不得商用。

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