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本发明描述了用于生成密度可变等离子体的方法和硬件。例如，在一实施方式中，处理站包括喷头和衬底架，所述喷头包括喷头电极，所述衬底架包括被构造来支撑衬底的台面，其中所述衬底架被设置在所述喷头的下方。所述衬底架包括设置在所述衬底架的内侧区域中的内...
该专利属于诺发系统公司所有，仅供学习研究参考，未经过诺发系统公司授权不得商用。

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