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本发明公开了利用等离子的硅烷气体去除装置。本发明一实施例的硅烷气体去除装置，包括：电磁波供应部，振荡产生预设频率的电磁波；放电管，从上述电磁波供应部所供应的上述电磁波及涡流气体产生等离子；涡流气体供应部，向上述放电管供应上述涡流气体；反应炉...
该专利属于严桓燮所有，仅供学习研究参考，未经过严桓燮授权不得商用。

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