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本发明涉及一种静电吸盘，用于对放置在其上的晶片产生静电吸力，包括：基板，其主体由介电材料制成；第一电极，由导电材料制成，铺设于基板中；第二电极，由导电材料制成，与第一电极间隔一定距离铺设于基板中第一电极上方；其中，第一电极、第二电极以及两者...
该专利属于上海集成电路研发中心有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海集成电路研发中心有限公司授权不得商用。

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