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一种亚波长抗反射结构的制作方法，该制作方法利用化学氧化还原反应制备的金属层在快速退火时金属层会发生自凝聚现象，然后金属层形成纳米结构的金属粒子；再利用金属粒子作为干法刻蚀的掩模进行干法刻蚀，最后形成亚波长的抗反射结构。本发明的制作方法，可以...该专利属于苏州大学;苏州苏大维格光电科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过苏州大学;苏州苏大维格光电科技股份有限公司授权不得商用。