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本发明涉及半导体生产设备的设计领域，尤其涉及采用光加热的CVD设备。本发明提供的采用光加热的CVD设备通过采用在所述壳体与所述传输带之间设置所述滚筒组，利用所述滚筒组与壳体和所述传输带的密封连接关系，达到所述壳体与所述传输带之间的动态密封设...
该专利属于王奉瑾所有，仅供学习研究参考，未经过王奉瑾授权不得商用。

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