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本发明公开了一种生长在Si衬底上的GaN薄膜,其包括Si衬底层、生长在Si衬底层上的Al2O3保护层、生长在Al2O3保护层上的GaN薄膜层。本发明的生长在Si衬底上的GaN薄膜的制备方法包括选取Si衬底;选取Si衬底的(111)晶面镀上一...该专利属于广州市众拓光电科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过广州市众拓光电科技有限公司授权不得商用。
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