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本发明公开了一种用于包含能够产生化学放大作用的第一组分和第二组分的光致抗蚀剂的光刻设备。第一组分和第二组分对光的敏感波段基本不同。该光刻设备包括：第一曝光设备，使用第一敏感波段的光对光致抗蚀剂的表面进行选择性照射，使得第一组分产生第一化学物...
该专利属于中芯国际集成电路制造（北京）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中芯国际集成电路制造（北京）有限公司授权不得商用。

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