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一种大面积纳米缝电极阵列并行制造的方法，将金属薄膜图形结构置于PMMA光刻胶表面，利用光致膨胀机理使PMMA产生膨胀凸起，位于其表面的金属薄膜受到拉伸作用发生断裂产生纳米缝，通过控制PMMA的凸起高度实现纳米缝结构的尺寸调控，本发明采用的纳...
该专利属于西安交通大学所有，仅供学习研究参考，未经过西安交通大学授权不得商用。

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