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一种InAs雪崩光电二极管及其制造方法技术
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文档序号:8535049
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本发明涉及一种雪崩光电二极管及其制造方法,特别涉及一种InAs雪崩光电二极管;所述的二极管采用吸收电荷倍增分离结构,其中倍增层采用超晶格结构。本发明还涉及一种制造所述InAs雪崩光电二极管的方法,主要步骤为:S1.产生采用多量子阱超晶格结构...
该专利属于华中科技大学所有,仅供学习研究参考,未经过华中科技大学授权不得商用。
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