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本发明提供一种用于等离子体处理腔室的多孔复合陶瓷部件、其制备方法以及等离子体处理腔室。制备多孔复合陶瓷部件的方法，包括：步骤S01：制备含有钇元素的流体；步骤S02：将含有钇元素的流体渗入多孔陶瓷基体表面的微孔中；步骤S03：经过热处理和/...
该专利属于中微半导体设备（上海）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中微半导体设备（上海）有限公司授权不得商用。

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