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本发明提供具有优良的耐湿热性等、且用于光记录介质的配位化合物，其由下述式(I)所示的化合物、金属、和选自由通过在胺上加上一个以上质子而形成的离子、铵离子以及季铵离子组成的组中的一种构成，式(I)中，R1表示可具有取代基的烷基等，R2表示氰基...
该专利属于KH新化株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过KH新化株式会社授权不得商用。

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