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具有高沟道迁移率的SiC-MOSFET制造技术
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下载具有高沟道迁移率的SiC-MOSFET的技术资料
文档序号:8490852
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半导体装置(100)具有SiC(碳化硅)制成的半导体本体(101)以及场效应晶体管。场效应晶体管具有形成在SiC制成的半导体本体(101)内的漂移区(102)以及半导体本体(101)上的多晶硅层(103),其中,多晶硅层(103)具有10n...
该专利属于英飞凌科技股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过英飞凌科技股份有限公司授权不得商用。
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