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一种耐磨型光扩散膜及背光装置，它包括基材、光扩散层、防粘结层，所述光扩散层表面的轮廓算术平均偏差Ra和微观不平度十点高度Rz满足以下要求：1um≤Ra≤5um，5um≤Rz≤25um；所述防粘结层表面的轮廓算术平均偏差Ra和微观不平度十点高...该专利属于合肥乐凯科技产业有限公司;保定乐凯薄膜有限责任公司;天津乐凯薄膜有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过合肥乐凯科技产业有限公司;保定乐凯薄膜有限责任公司;天津乐凯薄膜有限公司授权不得商用。