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本发明涉及一种地下建筑侧壁的自愈式施工缝结构及其施工方法，其特征是：在侧壁主体(1)的施工缝(3)处同步设置一道次侧壁(2)，在侧壁主体(1)和次侧壁(2)的连接处形成空隙(4)，在空隙(4)中填充满彭润土(6)后用混凝土封闭空隙(4)的上...
该专利属于广州市设计院所有，仅供学习研究参考，未经过广州市设计院授权不得商用。

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