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本发明公开了一种类金刚石复合二硫化钼纳米多层薄膜及其制备方法，采用双靶磁控溅射技术在不锈钢基底上交替沉积类金刚石层和二硫化钼层，最终获得类金刚石复合二硫化钼纳米多层薄膜。类金刚石单层厚度为10～100nm，二硫化钼单层厚度为10-100nm...
该专利属于中国科学院兰州化学物理研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院兰州化学物理研究所授权不得商用。

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