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有机二氟化硼配合物制造技术
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文档序号:8483538
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本发明公开了一种有机二氟化硼配合物,为结构式Ⅰ所示的配合物,其中,R1为H或OCH3,R2为C6H5、4-HOC6H4、4-(CH3)2NC6H4或2-C4H4S。该配合物可用于制备发光材料、荧光探针、荧光示踪剂、信息存储介质、激光染料及光...
该专利属于浙江理工大学所有,仅供学习研究参考,未经过浙江理工大学授权不得商用。
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