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本发明公开了一种快速反演薄膜生长厚度的光学监控追迹方法，属于薄膜生长光学监控技术领域。该方法建立了一种有别于导纳追迹方式的光学监控追迹方式，以膜系透射率的倒数及膜层等效位相厚度同时作为追迹对象，可以在监控过程中实时看到薄膜生长过程中光学特性...
该专利属于中国科学院上海技术物理研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院上海技术物理研究所授权不得商用。

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