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本实用新型涉及一种加热器供电电路，用于等离子体处理设备中加热静电卡盘，静电卡盘位于等离子体处理设备的反应腔室中，用于固定待加工件，等离子体处理设备外接有一射频电源，其包括至少一种频率的电信号，用于向反应腔室施加射频功率，加热器供电电路包括：...
该专利属于中微半导体设备（上海）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中微半导体设备（上海）有限公司授权不得商用。

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