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本实用新型公开了一种硅片自动下料设备，包括：用于传送来自于湿制程设备的硅片的第一传送机构，其包括第一传送带；传送方向与第一传送机构相同且分别与第一传送带对接的第二传送带和第三传送带；与第三传送带对接且传送方向相同的第二传送机构，用于将硅片送...
该专利属于库特勒自动化系统（苏州）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过库特勒自动化系统（苏州）有限公司授权不得商用。

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