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本实用新型公开了一种水冲击水柱发射装置,抛射筒、炮管、气室和设备支架,所述气室安装在所述设备支架内,所述炮管的下端与所述气室的上端连接,所述抛射筒置于所述炮管内。本实用新型是利用惯性抛射的原理实现规则水柱的发射,首先将一定体积的水装在抛射筒...该专利属于中国工程物理研究院总体工程研究所所有,仅供学习研究参考,未经过中国工程物理研究院总体工程研究所授权不得商用。
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本实用新型公开了一种水冲击水柱发射装置,抛射筒、炮管、气室和设备支架,所述气室安装在所述设备支架内,所述炮管的下端与所述气室的上端连接,所述抛射筒置于所述炮管内。本实用新型是利用惯性抛射的原理实现规则水柱的发射,首先将一定体积的水装在抛射筒...