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本发明公开一种背面抛光硅片的制备方法，其特征在于包括以下步骤：将已扩散的硅片使用氢氟酸、硝酸混合溶液清洗表面磷硅玻璃清洗，完成后使用氢氟酸、硝酸、硫酸混合溶液进行背面刻蚀，形成抛光效果，然后使用氢氧化钠溶液清洗上述反应产生的多孔硅，并使用氢...该专利属于东方电气集团（宜兴）迈吉太阳能科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过东方电气集团（宜兴）迈吉太阳能科技有限公司授权不得商用。