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本发明公开了一种光罩，用于TFT基板制造的曝光步骤中部分地阻挡紫外线，包括面板图形形成区和附加图形形成区，面板图形形成区用于形成面板图形；附加图形形成区设于面板图形形成区边缘，用于在面板图形边缘形成附加图形。本发明还公开了一种TFT基板及其...
该专利属于深圳市华星光电技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳市华星光电技术有限公司授权不得商用。

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