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通过将金属氧化物与优选为碱土金属的气态还原剂接触，直到几乎完成还原反应，然后通过浸提、进一步脱氧和烧结来制备含有或不合有选自Ｔａ、Ｎｂ、Ｔｉ、Ｍｏ、Ｗ、Ｖ、Ｚｒ和Ｈｆ的一种或多种金属的Ｔａ和／或Ｎｂ微细金属粉末，如此制备的粉末可被烧结成电容...该专利属于Ｈ．Ｃ．施塔克公司;Ｈ．Ｃ．施塔克股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过Ｈ．Ｃ．施塔克公司;Ｈ．Ｃ．施塔克股份有限公司授权不得商用。