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本发明提供了一种两段式气流床气化装置，包括气化炉上段气化室和气化炉下段气化室，所述气化炉上段气化室四周设有至少一层侧面工艺烧嘴室，至少两个侧面工艺烧嘴对称设于侧面工艺烧嘴室内；所述气化炉下段气化室两侧同轴设有对置式工艺烧嘴室，两个对置式工艺...
该专利属于上海锅炉厂有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海锅炉厂有限公司授权不得商用。

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