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本实用新型涉及一种CVD设备。所述CVD设备包括腔体、设置在所述腔体内的顶板和衬底支撑座，所述顶板与所述衬底支撑座相对设置，所述衬底支撑座具有面向所述顶板的衬底支撑面，待处理衬底设置于所述衬底支撑面，所述顶板具有面向所述衬底支撑座的第一表面...
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