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本发明提供了一种不使用异丙醇等现有的刻蚀抑制剂即可稳定地形成具有微细的金字塔状凹凸（纹理结构）的硅衬底的刻蚀液。这是一种浸渍硅衬底，使得在该衬底表面上形成金字塔状的凹凸的刻蚀液，其特征在于，含有选自用下述通式（1）所表示的化合物（A）或其碱...
该专利属于株式会社新菱所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社新菱授权不得商用。

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