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一种发光元件的转移方法，其包括：在第一衬底上形成多个阵列排列的发光元件，各发光元件包括元件层以及牺牲图案，且牺牲图案位于元件层与第一衬底之间；在第一衬底上形成保护层以选择性地覆盖部分的发光元件，其中部分的发光元件未被保护层所覆盖；令未被保护...
该专利属于财团法人工业技术研究院所有，仅供学习研究参考，未经过财团法人工业技术研究院授权不得商用。

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