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本发明实施例提供了一种基于缓冲层进行深刻蚀的掩蔽方法，该方法包括：在衬底上形成功能材料层；在所述功能材料层上形成缓冲层；在所述缓冲层上涂敷一层抗蚀剂材料；对所述抗蚀剂材料进行平面曝光，在所述抗蚀剂材料上形成预设的微结构图形；将抗蚀剂材料上的...该专利属于深圳光启高等理工研究院;深圳光启创新技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳光启高等理工研究院;深圳光启创新技术有限公司授权不得商用。