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本发明公开了一种光刻胶清洗液，该清洗液为非水性的低蚀刻清洗液。其含有：醇胺、3-氨基-5-巯基-1，2，4-三氮唑和助溶剂。这种光刻胶清洗液可以用于LED和半导体中光刻胶去除，同时对于基材基本没有攻击如金属铝等，更为特出的是该体系具有较强的...该专利属于安集微电子科技（上海）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过安集微电子科技（上海）有限公司授权不得商用。
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本发明公开了一种光刻胶清洗液，该清洗液为非水性的低蚀刻清洗液。其含有：醇胺、3-氨基-5-巯基-1，2，4-三氮唑和助溶剂。这种光刻胶清洗液可以用于LED和半导体中光刻胶去除，同时对于基材基本没有攻击如金属铝等，更为特出的是该体系具有较强的...