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本发明提供一种光掩模及曝光装置。光掩模(9)在同一掩模基板(10)上将掩模图案不同的多种图案区域(11)按照其中心轴相互平行的方式排列设置，并具备：在与各所述图案区域(11)的所述中心轴交叉的方向上，在与各中心轴偏离一定距离的位置处，分别按...
该专利属于株式会社V技术所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社V技术授权不得商用。

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