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本实用新型涉及一种用于直流弧放电高密度等离子体发生装置的放电腔室，包括放电腔室，其特征在于：所述放电腔室由放电室和绝缘套设置于固定架上构成。由于放电腔室不是整体加工，而是由固定架和放电室组成，两者分别制造，放电室选用耐高温绝缘材料，固定架选...
该专利属于芶富均所有，仅供学习研究参考，未经过芶富均授权不得商用。

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