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本发明涉及包含可发泡制剂，其包含下式的硅氧烷（A）、聚异氰酸酯（B）和有机聚硅氧烷（C）：V-(NHC(O)R1R2)p-m-n(NHC(O)R1R4[SiR2O]a-SiR2R4R1H)m(NHC(O)NR52)n(I)其中的基团和下标具...
该专利属于瓦克化学股份公司所有，仅供学习研究参考，未经过瓦克化学股份公司授权不得商用。

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