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本发明提出一种用于掩模对准的探测器系统，包括：透射光栅及探测器单元，掩模对准标记的光学成像经过该透射光栅后由该探测器单元接收，该探测器单元包括至少两个探测器，该探测器在垂直方向上呈递增或递减位置分步，在水平方向上呈直线分布。以及提出一种用于...该专利属于上海微电子装备有限公司;上海微高精密机械工程有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海微电子装备有限公司;上海微高精密机械工程有限公司授权不得商用。