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本发明涉及一种用于成像系统（101）的局部线圈（1，106），特别是MRT局部线圈（1，106），尤其是MRT头部线圈（1，106），其特征在于，所述局部线圈（1，106）具有外罩波陷波器（10），一条或多条导线（14）穿过所述外罩波陷波器...
该专利属于西门子公司所有，仅供学习研究参考，未经过西门子公司授权不得商用。

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