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本发明公开了一种制备嵌入式微纳通道的方法，涉及微纳加工技术，其包括步骤：(1)清理基底；(2)制备横截面尺寸在纳米量级的支撑牺牲层；(3)将步骤(2)中加工好的样品放置与固定在设备中；(4)图形观测，找到支撑牺牲层纳米结构所在的位置；(5)...
该专利属于中国科学院物理研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院物理研究所授权不得商用。

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