下载磁控等离子溅射硅薄膜技术的技术资料

文档序号:8191699

温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。

本发明主要在提供另一种制作硅薄膜太阳能膜层的方法。此发明主要包含power?supply、腔体机台本体、matching?box、机械帮浦、高速帮浦、加热板。由於一般制作硅薄膜主流之制程技术主要以化学气相沈积法(CVD)为主,其缺点在於系统...
该专利属于吉富新能源科技(上海)有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过吉富新能源科技(上海)有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。