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本发明揭示了一种光刻机掩模的对准扫描方法，依次进行X轴方向扫描、由X轴方向至Y轴方向的过渡扫描、Y轴方向扫描；其中所述X轴方向及Y轴方向的扫描速度、采样点数为固定值，所述过渡扫描的扫描轨迹、扫描速度及采样点数为随机值。针对上述对准扫描方法，...
该专利属于上海微电子装备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海微电子装备有限公司授权不得商用。

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