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使第二维度梯度适应实际第一维度条件的偏移二维分离制造技术
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文档序号:8190178
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本发明涉及使第二维度梯度适应实际第一维度条件的偏移二维分离。提供了用于样品分离装置的控制装置,包括第一分离单元和第二分离单元,第二分离单元位于第一分离单元下游并被供应经第一分离单元处理之后的流体样品。控制装置构造成:控制第一分离单元在时间段...
该专利属于安捷伦科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过安捷伦科技有限公司授权不得商用。
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