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本发明涉及一种制备细小晶粒高纯镍溅射靶材的制造方法，本发明采用电子轰击炉熔炼，随后在合适工艺条件下进行热机械变形和冷塑性变形处理，再进行热处理，最后进行机加工，得到高性能的细晶高纯镍靶材，其纯度≥99.995%，平均晶粒度≤30um，晶粒大...该专利属于北京有色金属研究总院;有研亿金新材料股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京有色金属研究总院;有研亿金新材料股份有限公司授权不得商用。