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一种滚筒抛光机上使用的MC尼龙抛光磨粒及其制备方法,其特征在于:所述MC尼龙抛光磨粒的组成成分及质量百分比为:己内酰胺单体60%~90%,悬浮、增稠剂0.5%~5%,磨料5%~20%,氧化铈0%~10%。本发明的MC尼龙抛光磨粒具有优良的耐...该专利属于河南工业大学;广东创汇实业有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过河南工业大学;广东创汇实业有限公司授权不得商用。
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一种滚筒抛光机上使用的MC尼龙抛光磨粒及其制备方法,其特征在于:所述MC尼龙抛光磨粒的组成成分及质量百分比为:己内酰胺单体60%~90%,悬浮、增稠剂0.5%~5%,磨料5%~20%,氧化铈0%~10%。本发明的MC尼龙抛光磨粒具有优良的耐...