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用于互连的自对准阻挡层和封盖层制造技术
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下载用于互连的自对准阻挡层和封盖层的技术资料
文档序号:8165849
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提供了用于集成电路中铜导线的集成电路用互连结构和用于制造这种互连结构的方法。含有Mn、Cr和V的层形成抵抗铜从所述导线扩散出来的阻挡体,从而保护绝缘体免于过早断裂并且保护晶体管免于被铜降解。含有Mn、Cr和V的层还增进铜和绝缘体之间的强有力...
该专利属于哈佛大学校长及研究员协会所有,仅供学习研究参考,未经过哈佛大学校长及研究员协会授权不得商用。
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