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本发明提供一种TFT基板接触孔蚀刻制程监控方法，包括以下步骤：步骤1、提供具有第一金属层的基板及监测机台；步骤2，提供具有第一金属层的基板的反射率参考值；步骤3、通过光罩制程图案化该第一金属层，以形成栅极；步骤4、在栅极上形成栅极绝缘层；步...
该专利属于深圳市华星光电技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳市华星光电技术有限公司授权不得商用。

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