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本发明涉及一种阳光控制薄膜，在基材PET上磁控溅射镀制氮化钛膜。基材PET的厚度为23μm-50μm。氮化钛膜的厚度为5nm-30nm。氮化钛膜采用中频反应磁控溅射孪生靶方法镀制。本发明还涉及一种双层复合阳光控制薄膜，两层阳光控制薄膜之间通...
该专利属于核工业西南物理研究院所有，仅供学习研究参考，未经过核工业西南物理研究院授权不得商用。

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