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飞秒激光无掩膜法制备磁敏感微结构单元的方法技术
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文档序号:8127268
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本发明公开了一种利用飞秒激光无掩膜法制备磁敏感微结构单元的方法,包括以下步骤:(1)按衬底、缓冲层、磁性层、保护层的顺序沉积制作磁性薄膜;(2)利用飞秒激光作为光源,通过计算机精确控制样品台的位置,对磁性薄膜进行无掩膜辐照,得磁敏感微结构单...
该专利属于淮阴工学院所有,仅供学习研究参考,未经过淮阴工学院授权不得商用。
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