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本发明公开了一种多槽循环硅片清洗机，包括机壳、清洗槽、给水管路及排水管路，清洗槽为至少6个顺次排列的槽体，依次主要由至少两个用于纯水清洗或药水碱洗的双功能清洗槽、至少两个用于药水碱洗的药洗清洗槽及至少两个用于纯水清洗的水洗清洗槽组成，排序末...
该专利属于晶海洋半导体材料（东海）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过晶海洋半导体材料（东海）有限公司授权不得商用。

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