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此处公开一种装置，包括：腔室；用于提供靶材液滴流的源，沿着靶材释放点和照射区域之间的路径将靶材传送到腔室中的照射区域；腔室中的气流，气流中至少有一部分沿朝着液滴流的方向流动；产生激光束的系统，所述激光束照射处于照射区域中的液滴，从而产生等离...
该专利属于西默股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过西默股份有限公司授权不得商用。

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